T.Suzuki, N.Haneji, K.Tada, M.Sugiyama, Y.Shimogaki, and Y.Nakano: "ECR Reactive Ion Etching of InP by Cyclic Injection of CH_4/H_2/Ar and O_2"Proc. 2nd Japan-Korea Joint Workshop on Short-Wavelength Semiconductor Optoelectronic Devices and Materials. 97
T.Suzuki, N.Haneji, K.Tada, M.Sugiyama, Y.Shimogaki, and Y.Nakano: "ECR Reactive Ion Etching of InP by Cyclic Injection of CH_4/H_2/Ar and O_2"Proc. 2nd Japan-Korea Joint Workshop on Short-Wavelength Semiconductor Optoelectronic Devices and Materials. 97
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T.Suzuki、N.Haneji、K.Tada、M.Sugiyama、Y.Shimogaki 和 Y.Nakano：“通过循环注入 CH_4/H_2/Ar 和 O_2 对 InP 进行 ECR 反应离子蚀刻”Proc。
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