K.Kimura et al: "Amorphization of Si (001) by ultra-low energy (0.5 to 5 keV) ion implantation observed by high-resolution RBS"Nucl.Instr.and Meth.in Phys.Res.. B148. 284-288 (1999)
K.Kimura et al: "Amorphization of Si (001) by ultra-low energy (0.5 to 5 keV) ion implantation observed by high-resolution RBS"Nucl.Instr.and Meth.in Phys.Res.. B148. 284-288 (1999)
复制标题
K.Kimura 等人：“通过高分辨率 RBS 观察到的超低能量（0.5 至 5 keV）离子注入对 Si（001）的非晶化”Nucl.Instr.and Meth.in Phys.Res..B148。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
