渡辺恵司, 坂入正敏, 高橋英明, 平井伸治: "ゾル・ゲル法によりSiO_2を被覆したアルミニウムのアノード酸化 -新規な高耐電圧アノード酸化皮膜の作製-"表面技術. 54巻3号(掲載予定). (2002)
渡辺恵司, 坂入正敏, 高橋英明, 平井伸治: "ゾル・ゲル法によりSiO_2を被覆したアルミニウムのアノード酸化 -新規な高耐電圧アノード酸化皮膜の作製-"表面技術. 54巻3号(掲載予定). (2002)
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Keiji Watanabe、Masatoshi Sakairi、Hideaki Takahashi、Shinji Hirai：“溶胶-凝胶法阳极氧化 SiO_2 涂层铝 - 新型高压阳极氧化膜的制备 -”Surface Technology，第 54 卷，第 3 期。即将出版）（2002）
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