Investigation of Sputtering Characteristics of Boron Nitride Manufactured by Ion Beam Sputter Deposition
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复制标题
离子束溅射沉积氮化硼的溅射特性研究
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Hosoda;S. Cho;R. Kawashima;Y. Ito;D. Fujita;他
