Jung-Hyung Kim: "The deposition of SiOF film with low dielectric constant in a helicon plasma" Applied Physics Letters. 68. 1507-1509 (1996)
Jung-Hyung Kim: "The deposition of SiOF film with low dielectric constant in a helicon plasma" Applied Physics Letters. 68. 1507-1509 (1996)
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Jung-Hyung Kim：“在螺旋等离子体中沉积低介电常数的 SiOF 薄膜”《应用物理快报》。
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