Crystallization of sputter-deposited amorphous Ge films by electron irradiation: Effect of low-flux pre-irradiation
Crystallization of sputter-deposited amorphous Ge films by electron irradiation: Effect of low-flux pre-irradiation
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电子辐照溅射沉积非晶 Ge 薄膜的结晶：低通量预辐照的影响
DOI：
10.1063/1.4964332
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发表时间：
2016
影响因子：
3.2
通讯作者：
H. Numakura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Okugawa;R. Nakamura;M. Ishimaru;H. Yasuda;H. Numakura
