LOW-TEMPERATURE GROWTH OF DIAMOND FILMS BY MICROWAVE PLASMA CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION USING CH4+CO2 GAS-MIXTURES
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使用 CH4 CO2 气体混合物通过微波等离子体化学气相沉积低温生长金刚石薄膜
DOI：
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发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Hsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Chia;Sheng;H. Ko;S. Hsu
