S.Morohashi: "SiO_2 Insulation Layer Fabricated using RF Magnetron Facing Target Sputtering and Conventional RF Sputtering"Jpn.J.Appl.Phys. 40. 1-2 (2001)
S.Morohashi: "SiO_2 Insulation Layer Fabricated using RF Magnetron Facing Target Sputtering and Conventional RF Sputtering"Jpn.J.Appl.Phys. 40. 1-2 (2001)
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S.Morohashi：“使用射频磁控管面向靶溅射和传统射频溅射制备SiO_2绝缘层”Jpn.J.Appl.Phys。
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