Simple estimate of electromigration failure in metallic thin films
Simple estimate of electromigration failure in metallic thin films
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金属薄膜电迁移失效的简单估计
DOI：
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发表时间：
1982
期刊：
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通讯作者：
A. Mogro
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Mogro
详细研究了铝和金在金属薄膜中的电迁移失效。这里给出了一个简单的表达式，当没有其他金属薄膜的实验信息时，它可以用来提供其他金属薄膜失效前的中值时间的大致估计。
Electromigration failure in thin metallic films has been studied in detail for aluminum and gold. A simple expression is given here, which can be used to provide rough estimates of median time to failure for thin films of other metals, when experimental information on them is not available.