トポタクティック合成法による酸化物薄膜へのアニオンドープ
トポタクティック合成法による酸化物薄膜へのアニオンドープ
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拓扑合成法阴离子掺杂氧化物薄膜
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
近松 彰
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Nakagawa;Y. Hashizume;T. Nakajima;and S. Okamura;近松 彰
