対向ターゲット式スパッタ法とマグネトロンスパッタ法による有機EL膜上へのITO成膜時に有機膜が受けるダメージの比較
対向ターゲット式スパッタ法とマグネトロンスパッタ法による有機EL膜上へのITO成膜時に有機膜が受けるダメージの比較
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对向靶溅射法与磁控溅射法在有机EL膜上形成ITO膜时对有机膜的损伤比较
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
内田孝幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
雷浩;星陽一;王美涵;澤田豊;内田孝幸
