H.Iwano, K.Yoshikawa, S.Zaima and Y.Yasuda: "Surface Roughness of strain-relaxed Si1_<-X>Ge_X layers grown by two-step growth method" Thin Solid Films. (in press). (1997)
H.Iwano, K.Yoshikawa, S.Zaima and Y.Yasuda: "Surface Roughness of strain-relaxed Si1_<-X>Ge_X layers grown by two-step growth method" Thin Solid Films. (in press). (1997)
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H.Iwano、K.Yoshikawa、S.Zaima 和 Y.Yasuda：“通过两步生长方法生长的应变松弛 Si1_<-X>Ge_X 层的表面粗糙度”固体薄膜。
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