Ar+イオン照射によるSiナノワイヤのNi合金化プロセスの制御性向上
Ar+イオン照射によるSiナノワイヤのNi合金化プロセスの制御性向上
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Ar+离子辐照提高Si纳米线Ni合金化过程的可控性
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渡邉 孝信
中科院分区：
文献类型：
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作者：
麻田 修平;橋本 修一郎;武井 康平;ソン セイ;張 旭;徐 泰宇;臼田 稔宏;遠藤 清;大場 俊輔;富田 基裕;今井 亮佑;小椋 厚志;松川 貴;昌原 明植;渡邉 孝信
