High-efficiency planarization of GaN wafer by catalyst-referred etching with positive-biased photo-electrochemical oxidation
High-efficiency planarization of GaN wafer by catalyst-referred etching with positive-biased photo-electrochemical oxidation
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通过正偏光电化学氧化的催化剂参考蚀刻实现 GaN 晶圆的高效平坦化
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Yamauchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Ohnishi;D.Toh;S. Matsuyama;A. Isohashi;Y. Sano;K. Yamauchi
