Boron nitride thin films deposited by RF plasma reactive pulsed laser ablation
Boron nitride thin films deposited by RF plasma reactive pulsed laser ablation
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通过射频等离子体反应脉冲激光烧蚀沉积氮化硼薄膜
DOI：
10.1016/s0169-4332(02)01386-7
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发表时间：
2003
影响因子：
6.7
通讯作者：
A. Santagata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
V. Marotta;S. Orlando;G. Parisi;A. Santagata
