Fabrication of 20-nm-thick Niobium thin films for novel planer Josephson junctions
Fabrication of 20-nm-thick Niobium thin films for novel planer Josephson junctions
复制标题
用于新型平面约瑟夫森结的 20 nm 厚铌薄膜的制造
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Uchida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Horiguchi;T. Tachiki;T. Uchida
