Oxidation behavior of (Ti1 − xAlx)N films perpared by r.f. reactive sputtering
Oxidation behavior of (Ti1 − xAlx)N films perpared by r.f. reactive sputtering
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射频反应溅射制备的 (Ti1 − xAlx)N 薄膜的氧化行为
DOI：
10.1016/s0040-6090(96)09503-x
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发表时间：
1997
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
K. Koterazawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Inoue;H. Uchida;Y. Yoshinaga;K. Koterazawa
