Science-based New Silicon Technologies Exhibiting Super High Performance due to Radical-reaction-based Semiconductor Manufacturing
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基于科学的新硅技术由于基于自由基反应的半导体制造而展现出超高性能
DOI：
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发表时间：
2011
影响因子：
0.6
通讯作者：
Tadahiro Ohmi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Katada;M.Komiyama;Tadahiro Ohmi
