High-power, low-pressure, inductively coupled RF plasma source using a FET-based inverter power supply
High-power, low-pressure, inductively coupled RF plasma source using a FET-based inverter power supply
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使用基于 FET 的逆变器电源的高功率、低压、电感耦合射频等离子体源
DOI：
10.7567/jjap.54.01aa08
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发表时间：
2015
影响因子：
1.5
通讯作者：
and Akira Ando
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shota Komizunai;Kohei Oikawa;Yuta Saito;Kazunori Takahashi;and Akira Ando
