RF反応スパッタ法で作製したSiAlON薄膜の構造と機械的性質
RF反応スパッタ法で作製したSiAlON薄膜の構造と機械的性質
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射频反应溅射SiAlON薄膜的结构与力学性能
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松本和晃,橋爪 隆,佐伯 淳,野瀬正照
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Yasue;M. Furuhashi;S. Ｋanehira;and K. Kikuta;松本和晃,橋爪 隆,佐伯 淳,野瀬正照
