Deposition of Transparent Conducting Al-Doped ZnO Thin Films by ICP-Assisted Sputtering

Deposition of Transparent Conducting Al-Doped ZnO Thin Films by ICP-Assisted Sputtering
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ICP 辅助溅射沉积透明导电 Al 掺杂 ZnO 薄膜

DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
Proceedings of TENCON 2010 IEEE Region 10 Conference, Fukuoka Japan
影响因子：
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通讯作者：
Y.Matsuda
Y.Matsuda
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
R.Shindo;Y.Matsuda

文献摘要

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