ナノクラスター支援メゾプラズマCVDによるパターン基板上高速単結晶Si厚膜堆積技術

ナノクラスター支援メゾプラズマCVDによるパターン基板上高速単結晶Si厚膜堆積技術
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使用纳米团簇辅助中间等离子体CVD在图案化基底上高速单晶硅厚膜沉积技术

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
T.Yoshida
T.Yoshida
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
L.W.Chen;M.Kambara;T.Yoshida

文献摘要

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