介电泳效应磨粒流抛光中的电极形态
介电泳效应磨粒流抛光中的电极形态
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DOI：
10.3969/j.issn.1004-132x.2020.23.006
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吕冰海
中科院分区：
文献类型：
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作者：
邓乾发;郑涛;袁巨龙;王旭;张学良;吕冰海
针对薄壁陶瓷工件内表面抛光,提出一种基于介电泳效应的磨粒流抛光方法。将非均匀电场布置于陶瓷工件外表面,极化磨粒,实现陶瓷工件内表面高效抛光。仿真分析发现:电极间隙比为2时,SiC磨粒具有最好的介电泳效应,参与抛光的磨粒最多。陶瓷工件初始内表面粗糙度值Ra为(208±5)nm时,抛光10h后,无介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为51nm,有介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为23nm。