Prospects for electron beam aberration correction using sculpted phase masks.
Prospects for electron beam aberration correction using sculpted phase masks.
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使用雕刻相位掩模进行电子束像差校正的前景。
DOI：
10.1016/j.ultramic.2016.02.002
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
2.2
通讯作者：
A. Arie
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R. Shiloh;R. Remez;A. Arie
影响因子：
2.8
作者：
Manuel Dries;S. Hettler;T. Schulze;W. Send;E. Müller;R. Schneider;D. Gerthsen;Yuansu Luo;K. Samwer
通讯作者：
Manuel Dries;S. Hettler;T. Schulze;W. Send;E. Müller;R. Schneider;D. Gerthsen;Yuansu Luo;K. Samwer
透射电子显微镜
DOI：
10.1007/978-3-319-26651-0_3
发表时间：
2016
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Burke M
通讯作者：
Burke M