Nano-Cluster Formation in Halogen Etching on Cl/Si(111)-7X7
Nano-Cluster Formation in Halogen Etching on Cl/Si(111)-7X7
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Cl/Si(111)-7X7 卤素蚀刻中纳米团簇的形成
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Tanaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Shudo;T.Kirimura;N.Kaneko;M.Takahashi;T.Ishikawa;M.Tanaka
