Infrared characteristic bands of highly dispersed silica
Infrared characteristic bands of highly dispersed silica
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高分散二氧化硅的红外特征谱带
DOI:
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发表时间:
1964
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
Kiyokatsu Inazuka
中科院分区:
文献类型:
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作者:
T. Takamura;H. Yoshida;Kiyokatsu Inazuka
SummaryInfrared studies were carried out for several silica modifications. On powdering bulk silica in air, new bands were observed to appear at 3400 cm−1 and 950 cm−1 irrespective of its inner crystallographic structure. In addition to the bands observed for bulk silica, bands were observed for silica gel at the following frequencies: 3400, 1650, 1120, 950, and 870 cm−1. Assignment of these band was made by using a deuteration technique and by preparing a transparent film of silica gel on a rock salt plate from tetramethoxy-silane and water vapor. The band at 3400 cm−1 is νOH of silanol or sorbed water; 1650 cm−1, δOH of sorbed water; 1120 cm−1, δOH of silanol; 950 cm−1,ν SiO of slanol; 870 cm−1, νSiOSi of bridged ≡SiOSi≡ link on the surface.ZusammenfassungEs wurden Infrarot-Untersuchungen an verschiedenen Silica-Modifikationen ausgeführt. Wenn man festes Silica an Luft pulvert, werden neue Banden bei 3400 cm−1 und 950 cm−1 unabhängig von der inneren Kristallstruktur beobachtet. Zusätzlich zu diesen Banden ergeben sich weitere in Silica-Gel bei den Frequenzen 3400, 1650, 1120, 950 und 870 cm−1. Die Zuordnung dieser Banden ließ sich mit Deuterierungs-methode und durch Herstellung transparenter Filme von Silica-Gel auf Steinsalzplatten aus Tetramethoxysilan und Wasserdampf erreichen. Die Bande bei 3400 cm−1 entspricht dem νOH von Silanol oder sorbiertem Wasser. 1650 cm−1 dem δOH von sorbiertem Wasser, 1120 cm−1 dem δOH von Silanol, 950 cm−1 den δSiO vom Silanol, 870 cm−1 dem νSiOSi der Brückenbindung an der Oberfläche.