Hybrid Orientation Substrate Fabrication using Electron Beam Induced Orientation Selective Epitaxial Growth of CeO_2(100) and (110) Areas on Si(100) Substrates by Reactive Magnetron Sputtering
Hybrid Orientation Substrate Fabrication using Electron Beam Induced Orientation Selective Epitaxial Growth of CeO_2(100) and (110) Areas on Si(100) Substrates by Reactive Magnetron Sputtering
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利用电子束诱导定向反应磁控溅射在 Si(100) 衬底上选择性外延生长 CeO_2(100) 和 (110) 区域的混合定向衬底
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Inoue and S. Shida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Dan Lei;三石和貴;原田研;下条雅幸;巨東英;竹口雅樹;T. Inoue and S. Shida
