Flexible Photoresist Material using Old and New Phenolic Resin
Flexible Photoresist Material using Old and New Phenolic Resin
复制标题
使用新旧酚醛树脂的柔性光刻胶材料
DOI：
10.11364/networkedpolymer.41.2_83
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山﨑博人
中科院分区：
文献类型：
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作者：
笠森なな;内田康雄;寺崎哲也;山﨑博人
ポジ型フォトレジストから形成されるドライフィルムは, 膜質が脆く柔軟性に欠けるため, それをロール状の製品とすることに難点がある. これを解消するため, 柔軟性と高精度なリソグラフィ性能を有するクレゾールノボラック樹脂についてまとめる. クレゾールノボラック樹脂に, 柔軟性を付与するための分子構造をイメージすると, ⅰ) 自由連結鎖をもつアルデヒド成分の導入, ⅱ) 側鎖構造をもつアルデヒド成分の導入, ⅲ) 嵩高いアルデヒド成分の導入などが考えられる. 具体的には, ⅰ) グリオキザール (アルキル鎖長 (x)= 0), スクシンアルデヒド (x= 2), グルタルアルデヒド (x= 3), あるいはアジポアルデヒド (x= 4) などのアルキル鎖をもつジアルデヒドの導入, ⅱ) ブタナールなどの導入, そして, ⅲ) 単糖から誘導された 5-ヒドロキシメチルフルフラール (HMF) などの導入が挙げられる. これらの中で, 剛直な複素環成分で嵩高い分子構造をもつ HMF が, 極めて高い柔軟性を示した.