フォトリソグラフィ・極端紫外光リソグラフィ用水溶性レジスト材料
フォトリソグラフィ・極端紫外光リソグラフィ用水溶性レジスト材料
复制标题
光刻/极紫外光刻用水溶性抗蚀剂材料
DOI:
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发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
竹井敏
中科院分区:
文献类型:
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作者:
竹井敏;山岸里緒;三浦早耶香;竹井敏