Atomic structure and relaxation behavior at AlN(0001)/Al_2O_3(0001) interface
Atomic structure and relaxation behavior at AlN(0001)/Al_2O_3(0001) interface
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AlN(0001)/Al_2O_3(0001)界面的原子结构和弛豫行为
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Ikuhara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Tokumoto;T.Mizoguchi;Y.Sato;N.Shibata;T.Yamamoto;Y.Ikuhara
