多元等离子体浸没离子注入与沉积和磁控溅射技术制备TiAlSiN/WS_2多层薄膜的力学性能和腐蚀行为(英文)
多元等离子体浸没离子注入与沉积和磁控溅射技术制备TiAlSiN/WS_2多层薄膜的力学性能和腐蚀行为(英文)
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DOI：
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发表时间：
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影响因子：
4.5
通讯作者：
王浪平
中科院分区：
文献类型：
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作者：
闫久春;解志文;黄磊;陆洋;王小峰;王浪平
