J-PARC π20ビームラインで用いるResistive Plate Chamber(RPC)の開発
J-PARC π20ビームラインで用いるResistive Plate Chamber(RPC)の開発
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开发用于 J-PARC π20 光束线的电阻板室 (RPC)
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Chia-Yu Hsieh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宇田隆佑;林双葉;冨田夏希;阪口篤志;白鳥昴太郎;Wen-Chen Chang;Ming-Lee Chu;Chia-Yu Hsieh
