非晶質シリコン層挿入によるスズ添加ゲルマニウム薄膜の特性向上
非晶質シリコン層挿入によるスズ添加ゲルマニウム薄膜の特性向上
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通过插入非晶硅层改善锡掺杂锗薄膜的性能
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐道 泰造
中科院分区：
文献类型：
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作者：
公 祥生;徐 暢;佐道 泰造
