狭ギャップ高密度水素プラズマを用いたオンサイトSiH4生成装置の開発
狭ギャップ高密度水素プラズマを用いたオンサイトSiH4生成装置の開発
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窄间隙高密度氢等离子体现场SiH4生成设备的开发
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
篠田史也，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Ohmi;H. Kakiuchi;and K. Yasutake;篠田史也，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
