Y.Hasegawa, T.Eguchi: "Potential profile around step edges of Si surface measured by nc-AFM"Applied Surface Science. (発表予定).
Y.Hasegawa, T.Eguchi: "Potential profile around step edges of Si surface measured by nc-AFM"Applied Surface Science. (発表予定).
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Y.Hasekawa、T.Eguchi：“通过 nc-AFM 测量的 Si 表面阶梯边缘周围的电势分布”应用表面科学（待提交）。
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