垣内弘章, 大参宏昌, 中澤弘一, 安武 潔, 芳井熊安, 森 勇藏: "大気圧プラズマCVD法によるアモルファスSiCの高速成膜に関する研究(第2報)-成膜パラメータの最適化による膜構造の改善-"精密工学会誌. 70(印刷中). (2004)
垣内弘章, 大参宏昌, 中澤弘一, 安武 潔, 芳井熊安, 森 勇藏: "大気圧プラズマCVD法によるアモルファスSiCの高速成膜に関する研究(第2報)-成膜パラメータの最適化による膜構造の改善-"精密工学会誌. 70(印刷中). (2004)
复制标题
Hiroaki Kakiuchi、Hiromasa Osami、Koichi Nakazawa、Kiyoshi Yasutake、Kumayasu Yoshii、Yuzo Mori:《常压等离子体CVD法高速沉积非晶SiC的研究(第2次报告)-通过优化沉积参数的薄膜形成结构改进-》期刊日本精密工程学会 70(印刷中)。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: