Chloridion-induced dual tunable fabrication of oxygen-deficient Bi2WO6 atomic layers for deep oxidation of NO
Chloridion-induced dual tunable fabrication of oxygen-deficient Bi2WO6 atomic layers for deep oxidation of NO
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氯离子诱导双可调制备缺氧 Bi_2WO_6 原子层用于 NO 深度氧化
DOI：
10.1016/s1872-2067(20)63708-1
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发表时间：
2021
影响因子：
16.5
通讯作者：
Hao Chen
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Xianglong Yang;Shengyao Wang;Ting Chen;Nan Yang;Kai Jiang;Pei Wang;Shu Li;Xing Ding;Hao Chen
