COUNTING AND SIZING OF SUBMICRON PARTICLES BY RESISTIVE PULSE TECHNIQUE
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DOI：
10.1063/1.1684724
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发表时间：
1970-01-01
影响因子：
1.6
通讯作者：
BEAN, CP
中科院分区：
文献类型：
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作者：
DEBLOIS, RW;BEAN, CP
