K. Hashimoto, K. Miura, T. Masuda, M. Toma, H. Sawai and M. Kawase: "Growth Kinetics of Polycrystalline Silicon from Silane by Thermal Chemical Vapor Deposition Method" J. Electrochem. Soc. 137, 3. 1000-1007 (1990)
K. Hashimoto, K. Miura, T. Masuda, M. Toma, H. Sawai and M. Kawase: "Growth Kinetics of Polycrystalline Silicon from Silane by Thermal Chemical Vapor Deposition Method" J. Electrochem. Soc. 137, 3. 1000-1007 (1990)
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K. Hashimoto、K. Miura、T. Masuda、M. Toma、H. Sawai 和 M. Kawase：“通过热化学气相沉积法从硅烷中生长多晶硅的动力学”J. Electrochem。
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