Rapid thermal processed thin films of niobium pentoxide (Nb2 O5) deposited by reactive magnetron sputtering
Rapid thermal processed thin films of niobium pentoxide (Nb2 O5) deposited by reactive magnetron sputtering
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通过反应磁控溅射沉积的五氧化二铌 (Nb2 O5) 快速热处理薄膜
DOI：
10.1016/s0040-6090(94)06470-9
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发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
S. .. Krupanidhi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Pignolet;G. M. Rao;S. .. Krupanidhi
