Chemical trend of Fermi-level shift in transition metal-doped TiO_2 films
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复制标题
过渡金属掺杂TiO_2薄膜费米能级位移的化学趋势
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Matsumoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
崔亨波;小林速;石橋章司;佐々匡昭;岩瀬文達;加藤礼三;小林昭子;伊山修;Atsushi Ota;Y.Matsumoto
