M.Adachi,T.Hayashi,T.Fujimoto and K.Okuyama: "Film Formation by a New CVD Process using Ionization of TEOS" Proceedings of the Fourteenth International Conference on Chemical Vapor Deposition and EUROCVD-11. 97-25. 1160-1166 (1997)
M.Adachi,T.Hayashi,T.Fujimoto and K.Okuyama: "Film Formation by a New CVD Process using Ionization of TEOS" Proceedings of the Fourteenth International Conference on Chemical Vapor Deposition and EUROCVD-11. 97-25. 1160-1166 (1997)
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M.Adachi、T.Hayashi、T.Fujimoto 和 K.Okuyama：“利用 TEOS 电离的新型 CVD 工艺形成薄膜”第十四届化学气相沉积和 EUROCVD-11 国际会议论文集。
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