Toshiaki Yasui: "Deposition Characteristics of Linear Sputtering Source Using ECR Discharge"Proceedings of 14th Int. Symp. on Plazma Chemistry. 3. 1635-1639 (1999)
Toshiaki Yasui: "Deposition Characteristics of Linear Sputtering Source Using ECR Discharge"Proceedings of 14th Int. Symp. on Plazma Chemistry. 3. 1635-1639 (1999)
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Toshiaki Yasui：“使用 ECR 放电的线性溅射源的沉积特性”第 14 届国际会议论文集。
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