Formation of half-metallic tunnel junctions of Co_2FeSi/SiO_xN_y/Si using radical oxynitridation technique
Formation of half-metallic tunnel junctions of Co_2FeSi/SiO_xN_y/Si using radical oxynitridation technique
复制标题
利用自由基氮氧化技术形成Co_2FeSi/SiO_xN_y/Si半金属隧道结
DOI：
--
复制
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.Sugahara
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Takamura;K.Hayashi;Y.Shuto;S.Sugahara
