Preparation of 596 nm-thick and full-coverage CH3NH3PbI3-xBrx thin films using 1.9 M PbI2 center dot NMP complex solution in DMF
Preparation of 596 nm-thick and full-coverage CH3NH3PbI3-xBrx thin films using 1.9 M PbI2 center dot NMP complex solution in DMF
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使用 DMF 中的 1.9 M PbI2 中心点 NMP 络合物溶液制备 596 nm 厚、全覆盖的 CH3NH3PbI3-xBrx 薄膜
DOI：
10.1016/j.spmi.2016.09.020
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发表时间：
2016
影响因子：
3.1
通讯作者：
Wang Yanqing
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Li Nannan;Shi Chengwu;Lu Mengxue;Li Long;Xiao Guannan;Wang Yanqing
