A.Arramescu: "Atomic Force Microscope Baeed Patterning of Carbonaceous Masks for Selective Area Growth on Semiconductor Surface."J.Appl.Phys.. 88,5. 3158-3165 (2000)
A.Arramescu: "Atomic Force Microscope Baeed Patterning of Carbonaceous Masks for Selective Area Growth on Semiconductor Surface."J.Appl.Phys.. 88,5. 3158-3165 (2000)
复制标题
A.Arramescu：“用于半导体表面选择性区域生长的碳质掩模的原子力显微镜基础图案化。”J.Appl.Phys.. 88,5。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
