Seiji Takeuchi: "Critical Dimension Metrology Utilizing From Birefringence Inherent in a Submicron Line-and-Space Pattern" Japan.J.Appl.Phys.36. 7720-7725 (1998)
Seiji Takeuchi: "Critical Dimension Metrology Utilizing From Birefringence Inherent in a Submicron Line-and-Space Pattern" Japan.J.Appl.Phys.36. 7720-7725 (1998)
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Seiji Takeuchi：“利用亚微米线和空间图案中固有的双折射进行临界尺寸计量”Japan.J.Appl.Phys.36。
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