F.A.Harraz, T.Sakka, Y.H.0gata: "Effect of Chloride Ions on Immersion Plating of Copper onto Porous Silicon from a Methanol Solution"Electrochimica Acta. 47. 1249-1257 (2002)
F.A.Harraz, T.Sakka, Y.H.0gata: "Effect of Chloride Ions on Immersion Plating of Copper onto Porous Silicon from a Methanol Solution"Electrochimica Acta. 47. 1249-1257 (2002)
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F.A.Harraz、T.Sakka、Y.H.0gata：“氯离子对从甲醇溶液中将铜浸镀到多孔硅上的影响”《电化学学报》。
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