S.Niida,T.Tohyama,T.Baba and Y.Kokubun: "Precise control of vertical surface selective deposition (VSSD) of dielectric film by dual ion-beam sputtering technique" Proceeding of Optoelectronic and Communication Conference. no.18P-1
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S.Niida、T.Tohyama、T.Baba 和 Y.Kokubun：“通过双离子束溅射技术精确控制介电薄膜的垂直表面选择性沉积（VSSD）”光电与通信会议论文集。
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