Investigation of the minimum UV-exposure period for high-throughput UV nanoimprinting
Investigation of the minimum UV-exposure period for high-throughput UV nanoimprinting
复制标题
高通量紫外纳米压印的最短紫外暴露时间的研究
DOI：
--
复制
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Masaru Nakagawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yota Ishito;Masaru Nakagawa
